...
首页> 外文期刊>Физика и техника полупроводников >Влияние нейтронного облучения и температуры отжига на электрофизические свойства и период решетки эпитаксиальных слоев нитрида галлия
【24h】

Влияние нейтронного облучения и температуры отжига на электрофизические свойства и период решетки эпитаксиальных слоев нитрида галлия

机译:中子照射的对电特性和氮化镓的外延层的晶格常数的效果和退火温度

获取原文
获取原文并翻译 | 示例

摘要

Рассмотрено влияние облучения большими флюенсамиреакторных нейтронов(Ф = = 1.5 @ 10~(17)-8 · 10~(19) см~(-2)) и последующих термообработок в интервале температур 100-1000°C на электрофизические свойства и период решетки эпитaксиaльныx слоев GaN, выращенных на подложке Al_2O_3. Показано, что c ростом флюенса нейтронов до (1-2) · 10~(18) см~(-2) удельное электрическое сопротивление материала увеличивается до значений около 10(10) Ом см за счет образовавшихся радиационных дефектов, a при дальнейшем увеличении флюенса удельное сопротивление, проходя через максимум, уменьшается до значений 2 · 10~6 Ом · см при 300 K, что объясняется появлением прыжковой проводимости по перекрытым оболочкам областей разупорядочения. Период решетки c c ростом флюенса нейтронов до 8 10~(19) см~(-2) увеличивается на 0.38% при практически неизменном параметре a. Термообработка облученных образцов до 1000°C не приводит к полному восстановлению периода решетки и электрофизических свойств материала.
机译:辐照对大量的反应器中子的影响(f = = 1.5×10〜(17)-8·10〜(19)cm〜(-2)),随后的热处理在100-1000°C上的温度范围内在Al_2O_3底物上生长的电神耳和晶格期延伸GaN层。结果表明,随着中子流量的生长至(1-2)·10〜(18)cm〜(-2),材料的具体电阻抗增加到约10(10)Ω的值,通过所得到的辐射缺陷,并且通过进一步增加电阻率,通过最大值,减少到300k的值2·10〜6欧姆·cm,这是通过在重叠时跳跃电导率的外观来解释的失抚地区的壳。晶格期C流量增长到80〜(19)cm〜(-2)增加0.38%,具有实际不变的参数a。辐照样品的热处理高达1000℃不会导致晶格周期的完全恢复和材料的电神法性质。

著录项

  • 来源
  • 作者单位

    Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова 249033 Обнинск Россия;

    Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова 249033 Обнинск Россия;

    Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова 249033 Обнинск Россия;

    Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова 249033 Обнинск Россия;

    Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова 249033 Обнинск Россия;

    Гиредмет 119017 Москва Россия;

    Научно-исследовательский физико-химический институт им. Л.Я. Карпова 249033 Обнинск Россия;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 rus
  • 中图分类 半导体物理学 ;
  • 关键词

    irradiation; treatment; properties;

    机译:辐照;治疗;性质;
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号