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机译:通过化学气相沉积法对石墨烯进行大气压等离子体处理
Atmospheric pressure; Plasma; Graphene; Doping; Chemical vapor deposition;
机译:通过化学气相沉积法对石墨烯进行大气压等离子体处理
机译:等离子体增强化学气相沉积和大气压等离子体处理在玻璃上沉积四甲基硅烷
机译:在化学气相沉积生长的石墨烯上进行原子层沉积之前,通过O-2等离子体处理提高栅极介电完整性
机译:通过大气压化学气相沉积对Ni箔产生石墨烯的底物温度的影响
机译:大气压非平衡等离子体化学处理金刚石薄膜的等离子体辅助化学气相沉积(PACVD)的实验研究
机译:常压等离子体化学气相沉积法生长掺锌铜的抗菌氧化硅薄膜
机译:通过大气压化学气相沉积在软化铜箔上生长的高质量双层石墨烯