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ウエットエッチングによる原子スケール平坦化触媒表面基準エッチング法の開発

机译:湿法蚀刻产生原子尺度扁平催化剂表面参考蚀刻方法的研制

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摘要

原子スケールの表面平坦化技術として,加工基準面を有する新しい化学エッチング,触媒表面基準エッチソグ法を開発した.SiC(0001),GaN(0001),ZnO(0001),サファイア(0001)を例に,炭化物,窒化物,酸化物単結晶材料の表面処理に適用した結果,幾何学的かつ結晶学的に極めて高度に規定された表面の創製が可能であることを明らかにした.
机译:作为原子尺度的表面平面化技术,开发了具有加工参考表面的新型化学蚀刻和催化剂表面参考蚀刻方法。 SiC(0001),GaN(0001),ZnO(0001),施用于碳化物,氮化物和氧化物单晶材料的表面处理,几何上和晶形上的Sapphire(0001),已经阐明了可以产生高度限定的表面。

著录项

  • 来源
    《应用物理》 |2013年第5期|共4页
  • 作者单位

    大阪大学大学院工学研究科〒565-0871吹田市山田丘2-1;

    大阪大学大学院工学研究科〒565-0871吹田市山田丘2-1;

    大阪大学大学院工学研究科〒565-0871吹田市山田丘2-1;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

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