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陈丹; 沈卓身; 任忠平;
北京科技大学材料科学与工程学院;
宁波东盛集成电路元件有限公司;
湿法蚀刻; 钛; 微电子制造;
机译:微制造中湿法蚀刻中不同蚀刻方法的影响以及各种蚀刻剂的影响
机译:Ti离子辐照在SiO_2中产生的轨迹的湿法和气相蚀刻
机译:Bi {Sub} 2T的湿法蚀刻{Sub} 3兼容微电子制造工艺的薄膜
机译:通过抛光湿法蚀刻方法改善基于模板的碳纳米管阵列纳米成制造方法
机译:通过顺序湿法蚀刻工艺制造不同几何截面的聚二甲基硅氧烷微流体通道的一步方法
机译:用于纳米技术中的器件制造的各向异性湿法蚀刻工艺的水平集模拟
机译:通过HaRsE和组合式HaRsE /湿法蚀刻微制造膜基器件
机译:微电子制造中的选择性化学蚀刻
机译:半导体制造中湿法工艺的蚀刻溶液
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