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3.プロセスプラズマにおける発光分光計測の基礎

机译:3.过程等离子体中发射光谱测量的基础

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摘要

発光分光計測はプラズマから自然に放出される発光を分析してプラズマの内部状態に関する情報を得るプラズマ計測法である.短時間で比較的容易に測定系を構築でき,また,測定デ一タも容易に取得できるため,様々なプラズマ計測法の中で実プロセスの計測に有効な手法といえる.その反面,測定結果からプロセスの改善?理解に有効な情報を引き出すには,発光励起種の生成過程など,プラズマ発光に関する適切な理解が必要となる.本章では,発光分光法の測定系やそれにょってプラズマ状態を正しく把握するために必要な基礎的事項や注意すベきポイントにっいて述ベる.さらに,アクチノメリ一を利用したN_2誘導結合プラズマの解離度の計測,微量添加希ガス発光分光法にょる電子温度の計測例にっいて取り上げ,その概要にっいて説明する.
机译:发射光谱测量是一种等离子体测量方法,其分析从等离子体发射的发射并获得关于等离子体的内部状态的信息。可以在短时间内相对容易地建立测量系统,并且可以容易地获得,并且可以是说它是一种测量各种等离子体测量方法中实际过程的有效方法。Askever可以从测量结果中改进过程?过程改进?对等离子体发光的适当理解,例如该过程。在本章中,在本章中,发射光谱的测量系统和所需的基本物质需要适当地抓住等离子体状态,并提请注意裸点。此外,使用放射体1测量N_2诱导的结合等离子体的解离程度,电子温度的测量例由痕量添加稀释气体发射光谱除去的是由痕量的稀释气体发射光谱取出,并且将描述轮廓。

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