机译:暴露于同步辐射的深X射线光刻镜表面污染的表征
Electrical and Computer Engineering University of Saskatchewan 57 Campus Drive Saskatoon Saskatchewan Canada S7N 5A9;
Synchrotron Laboratory for Micro and Nano Devices (SyLMAND) Canadian Light Source Inc. 44 Innovation Boulevard Saskatoon Saskatchewan Canada S7N 2V3;
Electrical and Computer Engineering University of Saskatchewan 57 Campus Drive Saskatoon Saskatchewan Canada S7N 5A9;
mirror reflectivity; oxidation; carbon contamination; development rate; X-ray lithography;
机译:暴露于同步辐射的深X射线光刻镜表面污染的表征
机译:西伯利亚同步加速器和太赫兹辐射中心的深层X射线光刻掩模制造特征
机译:深刻蚀X射线同步加速器辐射平版印刷术中聚甲基丙烯酸甲酯的结构变化第一部分:摩尔质量的下降
机译:通过同步辐射光刻制造X射线总反射镜芯片的制造
机译:利用同步辐射X射线显微镜,显微探针和光谱学来表征中开曼群岛中部浮力深海热液羽流中颗粒的碳,硫和铁形态。
机译:用于同步加速器光束线的下一代压电双压电晶片X射线镜的特性
机译:使用缝合干涉测量的大型X射线同步辐射镜测量的3D表面轮廓测量
机译:同步辐射下镜面碳污染研究