同步辐射X射线光刻中热辐射引起掩模畸变的研究

摘要

在同步辐射X射线光刻中,由于掩模的初始张应力和掩膜的非均匀受热将使掩模产生热畸变。本文基于BEPC(北京正负电子对撞机)的运行参数和光刻机系统,建立了掩模受热畸变研究的二维动态模型,对同步辐射X射线光刻中热辐射引起的掩模畸变进行了研究。这种研究方法对其他同步辐射光源和等离子脉冲X射线作用下的掩模畸变研究都是普遍适用的。