机译:通过使用Si-掺杂的分级超晶格改进IngaN / GaN发光二极管的装置性能,包括静电放电特性
Chonbuk Natl Univ Div Adv Mat Engn Jeonju 54896 South Korea;
Chonbuk Natl Univ Div Adv Mat Engn Jeonju 54896 South Korea;
Chonbuk Natl Univ Div Adv Mat Engn Jeonju 54896 South Korea;
Chonbuk Natl Univ Div Adv Mat Engn Jeonju 54896 South Korea;
Korea Photon Technol Inst Gwangju 61007 South Korea;
Korea Polytech Univ Dept Nanoopt Engn Shihung 15073 South Korea;
Kangwon Natl Univ Dept Phys Chunchon 24341 South Korea;
Chonbuk Natl Univ Dept Elect Engn Jeonju 54896 South Korea;
Light-emitting diodes; Fluorescence microscopy; Superlattice; Electrostatic discharge;
机译:通过使用Si-掺杂的分级超晶格改进IngaN / GaN发光二极管的装置性能,包括静电放电特性
机译:通过插入n〜+ -InGaN电子注入层和p-InGaN / GaN空穴注入层来改善InGaN / GaN MQWs发光二极管的静电放电特性
机译:含Si重掺杂GaN过渡层的375 nm紫外InGaN / AIGaN发光二极管的生长模式,内部量子效率和器件性能的研究
机译:通过使用重掺杂Si的GaN生长模式过渡层实现高性能375 nm紫外InGaN / AlGaN发光二极管
机译:以极性,半极性和非极性方向生长的InGaN / GaN多量子阱发光二极管。
机译:从硅衬底上分离出来的独立式GaN上的InGaN / GaN蓝色发光二极管的正向隧穿特性研究
机译:V-Pits Embedded Ingan / GaN超晶格对GaN的绿色发光二极管光学和电性能的影响(物理SOLVI A 5/2017)