机译:通过复合Messcale幅度相位掩模,自我图像对塔巴多特光刻的对比度增强
RAS SB VE Zuev Inst Atmospher Opt 1 Zuev Sq Tomsk 634021 Russia;
Natl Res Tomsk State Univ Lenin Ave 36 Tomsk 634050 Russia;
Natl Res Tomsk State Univ Lenin Ave 36 Tomsk 634050 Russia;
RAS SB VE Zuev Inst Atmospher Opt 1 Zuev Sq Tomsk 634021 Russia;
Talbot effect; displacement Talbot lithography; subwavelength diffraction grating; Mie-resonance; optical contrast;
机译:通过复合Messcale幅度相位掩模,自我图像对塔巴多特光刻的对比度增强
机译:粗线网格的自恢复图像:在相干EUV Talbot光刻中的应用
机译:使用法布里-珀罗型抗反射涂层的增强型极端紫外线光刻掩模检查的对比度
机译:Talbot位移光刻技术,带有柔软的弹性共形相位掩模
机译:位移Talbot光刻技术用于III族氮化物材料的纳米工程
机译:粗线网格的自恢复图像:在相干EUV Talbot光刻中的应用
机译:静态对比度增强层光刻。