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机译:使用法布里-珀罗型抗反射涂层的增强型极端紫外线光刻掩模检查的对比度
National Nano Device Lab., Hsinchu, Taiwan, R. O. C.;
extreme ultraviolet lithography; absorber; buffer layer; antireflective coatings; fabry-perot;
机译:用于极紫外光刻的反射型衰减相移掩模的高反射率,在深紫外条件下具有较高的检查对比度
机译:用于ArF和F_2受激准分子激光光刻中的二元掩模应用的Fabry-Perot型抗反射涂层
机译:使用Fabry-Perot干涉滤光片的用于极端紫外光刻的混合型衰减相移掩模的光学设计
机译:通过使用Fabry-Perot型抗反射涂料增强Extreme UltraViolet光刻掩模检查的对比度
机译:用于自然缺陷分析的极紫外光刻掩模版的局部掩模图案
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:B4C覆盖层对极端紫外线掩模的影响对使用投影电子显微镜图案化掩模检查的灵敏度