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机译:HCl溶液中N-GE(100)的光电金字塔纹理:蚀刻表面化学中的意外各向异性
Katholieke Univ Leuven Dept Chem B-3001 Leuven Belgium;
Ioffe Inst St Petersburg 194021 Russia;
IMEC B-3001 Leuven Belgium;
Tech Univ Darmstadt Inst Mat Sci D-64287 Darmstadt Germany;
Tech Univ Darmstadt Inst Mat Sci D-64287 Darmstadt Germany;
Tech Univ Darmstadt Inst Mat Sci D-64287 Darmstadt Germany;
Katholieke Univ Leuven Dept Chem B-3001 Leuven Belgium;
IMEC B-3001 Leuven Belgium;
机译:HCl溶液中N-GE(100)的光电金字塔纹理:蚀刻表面化学中的意外各向异性
机译:通过银辅助化学蚀刻工艺进行纳米纹理Si太阳能电池。通过银辅助化学蚀刻工艺
机译:关于在NaOH 35/100溶液中化学蚀刻(hk0)和(hhl)硅片的各向异性的一些研究。第二部分:3D蚀刻形状,分析以及与koh 56/100的比较
机译:通过电化学刻蚀对n型Ge(100)进行意外的金字塔变形:桥接表面化学和形态
机译:具有理想氢终止作用的化学蚀刻新表面清洁技术:silcon(111)和硅(100)表面的表面化学和形态。
机译:仅通过蚀刻而没有喷砂而获得的宏观和微纹理钛级5合金表面的表征
机译:HCl溶液中镀锌脉冲蚀刻过程中铝的形态和表面薄膜。
机译:HF和HCl溶液清洗Ge(100)的表面终止和粗糙度