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机译:碳化硅晶片电增强光催化抛光浆料的开发
Shenyang Univ Technol Sch Mech Engn Shenyang 110870 Liaoning Peoples R China;
Shenyang Univ Technol Sch Mech Engn Shenyang 110870 Liaoning Peoples R China;
Brunel Univ Sch Engn &
Design London England;
Shenyang Univ Technol Sch Mech Engn Shenyang 110870 Liaoning Peoples R China;
Shenyang Univ Technol Sch Mech Engn Shenyang 110870 Liaoning Peoples R China;
Silicon carbide wafer; electrical enhanced photocatalysis polishing; slurries; atomic smoothing; micro cutting;
机译:碳化硅晶片电增强光催化抛光浆料的开发
机译:9用于抛光单晶碳化硅的新型金刚石浆料,金刚石盘和催化剂蚀刻机械抛光方法的开发
机译:酸性组织化后金刚石线切割和碳化硅浆料处理的硅片表面的比较
机译:机械研磨和光催化联合化学抛光的方法研究碳化硅晶片的光洁度
机译:二氧化硅/碳化硅界面的微结构和化学研究及其与碳化硅MOS二极管和碳化硅MOSFET的电学性质的关系。
机译:碳化硅-碳化硅纳米粒子在硅晶片表面的生长和自组装成蠕虫状纳米杂化结构。
机译:测量和模拟硅晶片质量特性的鲁棒技术,使MEMC硅晶片的太阳能电池电气性能预测。合作研发最终报告,CRADA号码CRD-11-438