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机译:光电导性研究推导的重掺杂锗纳米晶体的带隙变窄和掺杂水平
Univ Valenciennes Univ Lille Cent Lille ISEN UMR IEMN 8520 CNRS F-59000 Lille France;
Zhejiang Univ State Key Lab Silicon Mat Hangzhou 310027 Zhejiang Peoples R China;
Zhejiang Univ State Key Lab Silicon Mat Hangzhou 310027 Zhejiang Peoples R China;
Univ Valenciennes Univ Lille Cent Lille ISEN UMR IEMN 8520 CNRS F-59000 Lille France;
Univ Valenciennes Univ Lille Cent Lille ISEN UMR IEMN 8520 CNRS F-59000 Lille France;
Quantum dots; Heavy doping; Germanium; Photoconductivity;
机译:光电导性研究推导的重掺杂锗纳米晶体的带隙变窄和掺杂水平
机译:重掺杂硼的p〜+硅中能带隙变窄的经验确定
机译:重掺杂引起的α-Si_3N_4带隙的大幅度变窄
机译:重掺杂外延发射极中带隙变窄的测量和重掺杂硅的建模
机译:重掺杂N型硅中的少数族裔载运子(发射极,磷表皮,双极晶体管,能隙窄带,太阳能电池)。
机译:CeO2共掺杂纳米晶体中掺杂物配位重排引起的带隙减小
机译:在室温下,重掺杂P和B的Si纳米晶体的带隙光致发光以下
机译:重掺杂锗的带边畸变研究