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机译:金属辅助化学蚀刻制备多孔硅的电化学阻抗研究
Cairo Univ Fac Sci Dept Chem Giza 12613 Egypt;
Cairo Univ Fac Sci Dept Chem Giza 12613 Egypt;
Metal-assisted chemical etching; Porous silicon; Surface morphology; Control experiments; EIS fitting parameters;
机译:金属辅助化学蚀刻制备多孔硅的电化学阻抗研究
机译:光电化学刻蚀制备的多孔硅的电化学阻抗谱分析:电流密度效应
机译:电化学刻蚀法制备聚苯乙烯/多孔硅光电探测器的性能研究
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机译:通过金属辅助化学蚀刻产生的多孔硅的材料表征,图案化和吸附物诱导的光调制。
机译:从硅工程到多孔硅和硅金属辅助化学刻蚀的纳米线:Ag的大小和作用电子清除率对形貌控制及机理的影响
机译:电化学蚀刻技术制备多孔硅的电性能研究