机译:在Ar离子注入的Si(100)衬底上形成压缩紧张Si /弛豫Si1-XCx异质结构的热稳定性
Nagoya Univ Grad Sch Engn Chikusa Ku Furo Cho Nagoya Aichi 4648603 Japan;
Univ Tokyo Inst Ind Sci Meguro Ku 4-6-1 Komaba Tokyo 1538505 Japan;
Tokyo City Univ Adv Res Labs Setagaya Ku 8-15-1 Todoroki Tokyo 1580082 Japan;
Univ Yamanashi Ctr Crystal Sci &
Technol 7-32 Miyamae Cho Kofu Yamanashi 4008511 Japan;
Univ Yamanashi Ctr Crystal Sci &
Technol 7-32 Miyamae Cho Kofu Yamanashi 4008511 Japan;
Univ Yamanashi Ctr Instrumental Anal 4-3-11 Takeda Kofu Yamanashi 4008511 Japan;
Nagoya Univ Grad Sch Engn Chikusa Ku Furo Cho Nagoya Aichi 4648603 Japan;
Molecular beam epitaxy; Strained Si; Ion implantation; Thermal stability;
机译:在Ar离子注入的Si(100)衬底上形成压缩紧张Si /弛豫Si1-XCx异质结构的热稳定性
机译:在松弛的Si_(1-x)Ge_x缓冲层上生长的应变硅/应变硅(1-y)Ge_y /应变硅异质结构中改善了热稳定性和空穴迁移率
机译:在松弛的Si_(1-x)Ge_x缓冲层上生长的应变硅/应变硅(1-y)Ge_y /应变硅异质结构中改善了空穴迁移率和热稳定性
机译:通过低能ECR Ar等离子CVD在没有衬底加热的情况下在Si(100)上外延生长的应变Si_(1-x)Ge_x膜的形成和表征
机译:单电子量子点应用中的应变硅/松弛硅锗异质结构的电气和材料性能。
机译:热氧化硅衬底上非常薄的共溅射Ti-Al和多层Ti / Al膜的相形成和高温稳定性
机译:提取大的价带能量偏移并与弛豫siGe衬底上的应变si /应变Ge-II异质结构的理论值比较