机译:N-2引入对低温反应射率磁控溅射生长的V掺杂ZnO薄膜结构和光学性质的影响
Tohoku Univ Grad Sch Engn Aoba Ku Sendai Miyagi 9808579 Japan;
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ZnO; Vanadium; Nitrogen; Low-temperature growth; RF magnetron sputtering;
机译:N-2引入对低温反应射率磁控溅射生长的V掺杂ZnO薄膜结构和光学性质的影响
机译:Cu掺杂对RF磁控溅射生长的ZnO薄膜结构,光学和电性能的影响:太阳能光催化的应用
机译:射频磁控溅射在蓝宝石和ZnO衬底上生长的单晶ZnMgO薄膜的结构和光学性质
机译:通过RF磁控溅射在各种基材上生长的ZnO薄膜的结构和光学性质
机译:射频磁控溅射未掺杂镧锰矿薄膜的结构,磁性和表面特性。
机译:溶胶-凝胶法和磁控反应溅射制备Eu掺杂ZnO薄膜的结构性能与能量转移的相关性
机译:错误:“低温缓冲液,RF功率和退火对由RF-磁控溅射生长的ZnO / Al2O3(0001)薄膜结构和光学性质的影响”J。苹果。物理。 106,023511(2009)