机译:碳化硅化学气相沉积反应器的快速清洁过程
Yokohama Natl Univ Yokohama Kanagawa 2408501 Japan;
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NuFlare Technol Inc Yokohama Kanagawa 2358522 Japan;
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Kanto Denka Kogyo Co Ltd Tokyo 1010063 Japan;
机译:碳化硅化学气相沉积反应器的快速清洁过程
机译:三氟化氯气碳化硅化学气相沉积反应器的清洗工艺
机译:适用于碳化硅化学气相沉积反应器的清洗工艺
机译:碳化硅外延反应器的快速实用清洁工艺
机译:通过化学气相沉积在氢化碳化硅材料的生长和加工中的化学反应性。
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:使用甲基三氯硅烷化学气相沉积在轴上碳化硅衬底上外延生长碳化硅