大日本印刷、EUVリソグラフィ向けフォ卜マスクプロセスを開発

摘要

大日本印刷（DNP)は、マルチ電子ビームを使うマスク描画装置を利用し、現在の半導体製造の最先端プロセスであるEUV(ExtremeUltra-Violet=極端紫外線）リソグラフィに対応する5nmプロセス相当のフォトマスク製造プロセスを開発した。国内外の半導体メ一力一のほか、半導体開発コンソーシアムや製造装置メーカー、材料メーカー等へEUVリソグラフィ向けフォトマスクを販売するとともに、EUVリソグラフィの周辺技術開発を支援し、2023年には年間60億円の売り上げを目指す。