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InP基板上低温成長In_xGa_(1-x)Asの結晶構造の成長温度およびアニール温度依存性

机译:低温生长晶体结构的生长温度和退火温度依赖于INP衬底上的in_xga_(1-x)

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摘要

本研究では、InP基板上の低温成長In_xGa_(1-x)Asに着目し、特に混晶半導体の特性の基本となる結晶構造に焦点を当てた。XRD法、ラザフォード後方散乱法(Ruther ford back scattering spectrometry: RBS)、X線逆格子マッピング(Reciprocal space mapping: RSM)測定を用い、低温成長In_xGa_(1-x)As内のIn原子の格子位置を中心に、その結晶構造に関する新たな知見を得たので報告する。
机译:在本研究中,我们将低温生长in_xga_(1-x)聚焦为INP基板,并专注于基本上基于混合晶体半导体特性的晶体结构。 XRD方法,RUTHER福特背散射光谱法(RBS),X射线逆格映射(RSM)测量,低温生长in_xga_(1-x)在原子中的晶格位置,因为我们报告了关于晶体结构的新知识中央。

著录项

  • 来源
    《材料》 |2015年第9期|共5页
  • 作者

    富永依里子; 角屋豊;

  • 作者单位

    広島大学大学院先端物質科学研究科;

    広島大学大学院先端物質科学研究科;

  • 收录信息
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 jpn
  • 中图分类 工程材料学;
  • 关键词

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