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机译:Si(111)衬底载荷掺杂时拟一维铟链的4x1至8x2结构转变温度的变化
Tokyo Inst Technol Dept Phys Midori Ku 4259 Nagatsuta Yokohama Kanagawa 2268502 Japan;
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Tokyo Inst Technol Dept Mat Sci &
Engn Midori Ku 4259 Nagatsuta Yokohama Kanagawa 2268502 Japan;
Tokyo Inst Technol Dept Phys Midori Ku 4259 Nagatsuta Yokohama Kanagawa 2268502 Japan;
surface doping; In nanowire; Si substrate; structural transition;
机译:Si(111)衬底载荷掺杂时拟一维铟链的4x1至8x2结构转变温度的变化
机译:AB Initio研究转发 - 金属酞菁在准一维金属表面上的吸附,In / Si(111)-4x1
机译:铟诱导的SI(111)4X1硅基质原子重构
机译:掺杂浓度和衬底温度对铟掺杂氧化锌薄膜物理性能的影响
机译:1/3 ML锡/锗(111)和1/3 ML铅/锗(111)表面的低温相变的原子尺度结构研究。
机译:超声喷雾热解法形成铟掺杂氧化锌薄膜的研究:气溶胶溶液中水分的含量和基质温度对提高电迁移的重要性
机译:光致si(111)(8x2)→(4x1) - 相变的超快结构非平衡动力学