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机译:通过RF溅射的高质量外延钇铁石榴石薄膜的室温沉积
Xi An Jiao Tong Univ Sch Elect &
Informat Engn Xian 710049 Peoples R China;
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Hong Kong Univ Sci Technol Dept Phys Hong Kong Hong Kong Peoples R China;
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Informat Engn Xian 710049 Peoples R China;
Ferrimagnetic thin films; Sputtering; XRD; TEM; Magnetic measurements;
机译:通过RF溅射的高质量外延钇铁石榴石薄膜的室温沉积
机译:高温下外延钇铁石榴石超薄膜的电学性能
机译:高温下外延钇铁石榴石超薄薄膜的电气性能
机译:在硅上生长相纯钇铁石榴石薄膜:衬底和沉积后退火温度的影响
机译:钇铁石榴石纳米薄膜:外延生长,阻尼,自旋泵浦和磁性邻近效应。
机译:通过离轴溅射可调节垂直磁各向异性的高质量th铁石榴石薄膜–磁性和薄膜应变之间的关系
机译:脉冲激光沉积外延钇铁石榴石薄膜具有低吉尔伯特阻尼和块状磁化