机译:在氩气氛中W-MO-C靶标的高功率脉冲磁控磁控磁阻会的组成和动力学
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.;
Materials and Engineering Research Institute Sheffield Hallam University;
TRUMPF Huettinger Sp. z o.o.;
Materials and Engineering Research Institute Sheffield Hallam University;
HIPIMS; Me-DLC; Plasma dynamics; Optical emission spectroscopy(OES);
机译:在氩气氛中W-MO-C靶标的高功率脉冲磁控磁控磁阻会的组成和动力学
机译:高功率脉冲磁控溅射的排放失控:气体压力,组成和目标峰值电压的影响
机译:氩亚稳态在大功率脉冲磁控溅射放电中重要吗?
机译:磁场对大功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)放电中鞘前动力学的影响
机译:大功率脉冲磁控管溅射放电的表征。
机译:高功率脉冲磁控溅射
机译:氩气氛下W-Mo-C靶大功率脉冲磁控管放电的组成和动力学