机译:钪含量对反应脉冲磁控溅射沉积的Alscn膜结构和压电性能的影响
Fraunhofer Inst Organ Elect Electron Beam &
Plasm Winterbergstr 28 D-01277 Dresden Germany;
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Aluminum scandium nitride films; Pulse magnetron sputtering; Structure; Piezoelectric properties; Young's modulus;
机译:钪含量对反应脉冲磁控溅射沉积的Alscn膜结构和压电性能的影响
机译:Cu的作用对由高功率脉冲磁控溅射和脉冲DC磁控溅射组合的混合系统沉积的TIB2膜微观结构和性能
机译:直流磁控溅射,脉冲直流磁控溅射和阴极电弧蒸发沉积的Ti膜的结构和性能
机译:氧含量对氧离子束辅助脉冲反应磁控溅射沉积的Al_2O_3薄膜微结构和光学性能的影响
机译:在高温“智能”摩擦应用中,在封闭场不平衡磁控溅射中反应性沉积的氮化铝压电薄膜。
机译:反应堆磁控溅射沉积p型缺铜Cu Cr0.95-xMg0.05 O2薄膜的光电性能
机译:V含量的增加对直流反应磁控溅射沉积Ti–Si–V–N薄膜的结构,力学性能和抗氧化性的影响