...
机译:使用铝三异丙氧化铝(ATIP)Al2O3的原子层沉积:一个实验和理论研究
Univ Ghent Lab Chem Technol Technol Pk 914 B-9052 Ghent Belgium;
Univ Ghent Dept Solid State Sci Krijgslaan 281 S1 B-9000 Ghent Belgium;
Univ Ghent Dept Solid State Sci Krijgslaan 281 S1 B-9000 Ghent Belgium;
Univ Ghent Dept Solid State Sci Krijgslaan 281 S1 B-9000 Ghent Belgium;
Delft Univ Technol Dept Chem Engn NL-2629 HZ Delft Netherlands;
Univ Ghent Dept Solid State Sci Krijgslaan 281 S1 B-9000 Ghent Belgium;
Delft Univ Technol Dept Chem Engn NL-2629 HZ Delft Netherlands;
Univ Ghent Dept Solid State Sci Krijgslaan 281 S1 B-9000 Ghent Belgium;
Univ Ghent Lab Chem Technol Technol Pk 914 B-9052 Ghent Belgium;
机译:使用铝三异丙氧化铝(ATIP)Al2O3的原子层沉积:一个实验和理论研究
机译:原子层沉积中PT纳米颗粒的MCP2(M = Fe,Co和Ni)前体的边缘选择性生长:一种理论和实验研究
机译:各种温度下Al2O3原子层沉积工艺排放的实验研究及净化时间
机译:硅表面钝化通过混合铝前体在Al2O3原子层沉积中
机译:航天器应用原子层沉积工艺的实验与图形理论研究
机译:原子层沉积Al2O3涂层显着改善了热化学和机械性能阳极TiO2纳米管层的稳定性
机译:氧化铝(Al 2 O 3)的热原子层蚀刻使用铌五氟化铌(NBF5)和四氯化碳(CCL4):蚀刻机构的组合实验和密度泛函理论研究