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机译:激光辅助化学蚀刻晶体硅的正负色调结构
Aix Marseille Univ CNRS LP3 F-13288 Marseille France;
Kansas State Univ Dept Ind &
Mfg Syst Engn Manhattan KS 66502 USA;
Kansas State Univ Dept Ind &
Mfg Syst Engn Manhattan KS 66502 USA;
Aix Marseille Univ CNRS LP3 F-13288 Marseille France;
Aix Marseille Univ CNRS CINaM UMR 7325 F-13288 Marseille France;
Kansas State Univ Dept Ind &
Mfg Syst Engn Manhattan KS 66502 USA;
Aix Marseille Univ CNRS LP3 F-13288 Marseille France;
机译:激光辅助化学蚀刻晶体硅的正负色调结构
机译:铜辅助化学刻蚀在多晶硅上倒金字塔状结构的取向和光学性质
机译:通过在晶体硅表面上结合AFM和化学蚀刻来制造3D结构
机译:通过金属辅助化学蚀刻对多晶硅型多晶硅捕获纳米结构形成的反应时间
机译:使用基于栅格的三极管射频等离子增强化学气相沉积法获得高质量的非晶态晶体硅异质结构。
机译:异丙醇浓度和刻蚀时间对低电阻晶体硅晶片湿化学各向异性刻蚀的影响
机译:激光辅助化学蚀刻晶体硅的正负色调结构
机译:使用氯五氟乙烷准分子激光辅助蚀刻硅。