机译:石墨烯CVD生长过程中石墨形逸出氢分压对石墨烯形状的影响
CSIC BIST Catalan Inst Nanosci &
Nanotechnol ICN2 Campus UAB Barcelona 08193 Spain;
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机译:石墨烯CVD生长过程中石墨形逸出氢分压对石墨烯形状的影响
机译:3D CVD石墨烯氧化物涂覆的Ni泡沫作为碳酸溶液中氢化反应的碳和电催化剂:原位电化学气相色谱
机译:通过CVD法在Ni-ilica-纳米复合材料中出于原位生长Ni-illica纳米复合材料,用于氧气进化反应
机译:PMMA增强无转移原位CCVD生长石墨烯的横向生长
机译:在SiO 2衬底上通过剥落的石墨烯种子进行CVD生长石墨烯。
机译:单层石墨烯的部分压力辅助生长由低压化学气相沉积种植:对高性能石墨烯FET器件
机译:对低压化学气相沉积的单层石墨烯的部分压力辅助生长的校正:对高性能石墨烯FET器件的影响“