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机译:LN(2)Ga(2)ZnO(7)基于氧化物半导体的基于电荷陷阱器件,用于NAND闪存
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 151744 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 151744 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 151744 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 151744 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 151744 South Korea;
Chonbuk Natl Univ IPIT Jeonju 54896 South Korea;
Seoul Natl Univ Dept Mat Sci &
Engn Seoul 151744 South Korea;
charge trap memory; a-IGZO; MOCVD; sputtering; Fermi level;
机译:LN(2)Ga(2)ZnO(7)基于氧化物半导体的基于电荷陷阱器件,用于NAND闪存
机译:金属Al 2 O 3-氮化物-氧化物半导体(MANOS)和半导体-氧化物-氮化物-氧化物半导体(SONOS)电荷陷阱闪存的耐久性和偏置温度不稳定性特征的比较研究
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机译:基于氧化物半导体的电荷陷阱器件,用于垂直集成的NAND闪存
机译:新型基于氮化硅的电荷陷阱栅功率半导体器件。
机译:半导体:基于并五苯/ P13 /并五苯作为电荷传输层和陷阱层的有机半导体异质结构的高性能非易失性有机场效应晶体管存储器(Adv。Sci。8/2017)
机译:基于纳米粒子的电荷捕获记忆装置应用mOs技术:使用聚乙烯醇封端的氧化锌纳米晶的认知方法
机译:mOs(金属氧化物半导体)器件中陷阱电荷积累的偏压和氧化层厚度依赖性