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机译:后退火温度对通过脉冲激光沉积(PLD)在MgO(100)单晶衬底上产生的Bi_2Sr_2Ca_1Cu_2O_(8+?)薄膜的生长机制的影响
Bi-2212 thin film; Pulsed laser deposition (PLD); Post-annealing; Critical current density; Superconductivity; Magnetic hysteresis;
机译:后退火温度对通过脉冲激光沉积(PLD)在MgO(100)单晶衬底上产生的Bi_2Sr_2Ca_1Cu_2O_(8+?)薄膜的生长机制的影响
机译:通过脉冲激光沉积在MgO(100)衬底上的单畴LaB_6(100)外延薄膜的缓冲层增强生长
机译:使用脉冲激光沉积(PLD)方法对沉积在不同单晶基板上的Y_(0.225)SR_(0.775)SR_(0.775)SR_(0.775)COO_3薄膜的结构,电介质,光学和电子性能。
机译:退火后温度对Bi_2SR_2CA_1CU_2O_(8 +δ)薄膜生长机理的影响
机译:脉冲激光沉积生产的薄膜半导体二硅化铁的生长和性能。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:后退火时间对通过脉冲激光沉积(PLD)在MgO(100)单晶衬底上生产的Bi2Sr2Ca1Cu2O8 +薄膜的生长机理的影响