机译:使用脉冲激光沉积(PLD)方法对沉积在不同单晶基板上的Y_(0.225)SR_(0.775)SR_(0.775)SR_(0.775)COO_3薄膜的结构,电介质,光学和电子性能。
Solid State Physics Department Physical Research Division National Research Centre (NRC) 33 El Bohouth Street Dokki P.O. 12622 Giza Egypt;
Basic Science Department Faculty of Faculty of Technology and Education Helwan University Kobry El-Qopa Cairo 11281 Egypt;
机译:结构,光学,非线性光学,电介质特性和LA_(0.01)BA_(0.99)TiO_3,SM_(0.5)SR_(0.5)COO_3和SM_(0.5)SR_(0.01)BA_(0.01)BA_的电子结果 (0.99)使用脉冲激光沉积(PLD)技术在石英基板上生长的TiO_3薄膜
机译:通过脉冲激光沉积生长的(K_(0.48)Na_(0.48)Li_(0.04))(Nb_(0.775)Ta_(0.225))O_3薄膜的铁电,压电和泄漏电流特性
机译:微波可调谐器件的脉冲激光沉积技术沉积Ba_(0.6)Sr_(0.4)Ti_(0.99)Fe_(0.01)O_3薄膜的介电和光学性能
机译:脉冲激光沉积在单晶衬底上沉积的Pb(Zr / sub 0.2 / Ti / sub 0.8 /)O / sub 3 /薄膜的电和铁电性能
机译:通过中和离子束溅射和脉冲激光沉积沉积的n型薄膜透明导电氧化物的电学和光学性质的制备和表征。
机译:衬底温度和氧分压对脉冲激光沉积生长纳米晶铜氧化物薄膜性能的影响
机译:撤回:不同的单晶衬底对脉冲激光沉积(PLD)法制备的Y0.225Sr0.775CoO3薄膜的结构,光学性质和介电结果的影响