机译:通过远程氢等离子体处理在SiGe / Si外延系统的p-Si衬底中形成低阻区
SiGe/Si; hydrogen; resistivity reduction; interface; CRYSTALLINE SILICON; IMPLANTATION; DEFECTS;
机译:通过远程氢等离子体处理在SiGe / Si外延系统的p-Si衬底中形成低阻区
机译:界面NH_3 / N_2O-等离子体处理对p-Si衬底上超薄HfO_2栅极电介质结构和电性能的影响
机译:热处理对在p-Si(100)衬底上生长的ZnO薄膜中柱状结构形成的影响
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机译:使用电子回旋共振等离子体在低衬底温度下氧化Si和SiGe。
机译:在6英寸N掺杂的低电阻率SiC基板上的常压P-GaN栅极AlGaN / GaN Hemts的高热耗散
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