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机译:硅湿蚀刻:Hillock形成机理和动态结垢特性
Etching models; Monte Carlo simulations; Scaling;
机译:硅湿蚀刻:Hillock形成机理和动态结垢特性
机译:硅湿蚀刻后的小丘尺寸
机译:蚀刻过程中小丘形成的基本机理
机译:通过使用简单的湿法刻蚀实现锥形硅纳米线,实现晶圆级硅抗反射
机译:用于纳米级应用的硅湿各向异性刻蚀机理。
机译:通过分子动力学模拟揭示(110)硅从低温到高温的变形机理
机译:铜杂质对湿法腐蚀Si(110)的影响:梯形小丘的形成