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Band Alignment in MoS2/WS2 Transition Metal Dichalcogenide Heterostructures Probed by Scanning Tunneling Microscopy and Spectroscopy

机译:MoS2 / WS2过渡金属双硫族化物异质结构的能带对准通过扫描隧道显微镜和光谱探测。

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摘要

Using scanning tunneling microscopy (STM) and scanning tunneling spectroscopy (STS), we examine the electronic structure of transition metal dichalcogenide heterostructures (TMDCHs) composed of monolayers of MoS2 and WS2. STS data are obtained for heterostructures of varying stacking configuration as well as the individual monolayers. Analysis of the tunneling spectra includes the influence of finite sample temperature, yield information about the quasi-particle bandgaps, and the band alignment of MoS2 and WS2. We report the band gaps of MoS2 (2.16 +/- 0.04 eV) and WS2 (2.38 +/- 0.06 eV) in the materials as measured on the heterostructure regions and the general type II band alignment for the heterostructure, which shows an interfacial band gap of 1.45 +/- 0.06 eV.
机译:使用扫描隧道显微镜(STM)和扫描隧道光谱(STS),我们检查了由MoS2和WS2单层组成的过渡金属二卤化异氰酸酯异质结构(TMDCH)的电子结构。对于变化的堆叠构型的异质结构以及各个单层,获取了STS数据。隧道光谱的分析包括有限样品温度的影响,关于准粒子带隙的产量信息以及MoS2和WS2的能带对准。我们报告了在异质结构区域上测得的材料中MoS2(2.16 +/- 0.04 eV)和WS2(2.38 +/- 0.06 eV)的带隙和异质结构的一般II型能带排列,这显示了界面带间隙为1.45 +/- 0.06 eV。

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