ゾルゲル法により作製したNi/SiO_2触媒の細孔構造とNi分散性

摘要

ゾルゲル法によるシリカ担持ニッケル触媒作製において，Ni種の凝集によって分散性が低下する原因を明らかにし，有機添加物の添加やゲル作製時のpH制御によって，Niの分散性を向上できることを見出した。 同時にシリカ担体の細孔構造や安定性を制御することにより，ベンゼンの水素化やメタンのリフオーミングに高活性を示すNi/SiO_2触媒を作製した。