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机译:硅中掺杂剂注入和退火的原子建模:损伤演化,掺杂剂扩散和活化
modeling; silicon; defects; boron; TRANSIENT-ENHANCED DIFFUSION; SELF-INTERSTITIAL CLUSTERS; MOLECULAR-DYNAMICS; ION-IMPLANTATION; POINT-DEFECTS; B-DIFFUSION; STRUCTURAL TRANSFORMATIONS; REGROWN SILICON; BORON; AMORPHIZATION;
机译:硅中掺杂剂注入和退火的原子建模:损伤演化,掺杂剂扩散和活化
机译:关于漂移扩散模拟中的离散随机掺杂物建模:“原子”掺杂物的物理含义
机译:建立硅中离子注入和掺杂剂扩散的预测原子模型
机译:后Epi注入和活化退火形成的Si:C源和漏极的优化:高C Si:C Epi层中掺杂剂扩散和C演变的实验和理论分析
机译:外延氮化镓中的离子植入损伤,退火和掺杂剂活化
机译:Li2Ti6O13中的缺陷扩散和掺杂:原子模拟研究
机译:注释在退火的“应用中的离子植入掺杂剂谱展开的”对扩散方程的精确分析方案“评析”“物理。 Lett.50,155(1987)
机译:关于离子注入和掺杂剂扩散在211硅中的预测原子模型