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AlGaN/GaN HEMTのドレインリーク電流解析

机译:AlGaN / GaN HEMT漏电流分析

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摘要

AlGaN/GaN HEMTのドレインリーク電流について,実測とTCADシミュレーションの両方から解析した.まず,ピンチオフ電圧以下のドレイン電流の温度依存性からGaN層中に活性化エネルギー0.15,0.5eVの2種類のトラップがあり,電子は空間電荷制限機構により電導していることがわかった.次にこれらの実測値を参考にTCADシミュレーションを実施した.その結果,トラップが存在することで,ドレインリーク電流が抑制されることがわかった.これは,トラップが負に帯電することで,伝導帯エネルギーが上昇し,電子に対する障壁が増加するためである.
机译:通过实际测量和TCAD仿真分析了AlGaN / GaN HEMT的漏极泄漏电流。首先,从低于夹断电压的漏极电流的温度依赖性出发,发现GaN层中有两种陷阱能的激活能分别为0.15和0.5 eV的电子,并且电子是通过空间电荷限制机制传导的。接下来,参考这些测量值进行TCAD仿真。结果,发现通过陷阱的存在抑制了漏极泄漏电流。这是因为陷阱带负电,因此增加了导带能量并增加了对电子的势垒。

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