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AlGaN/GaN HEMTのドレインリーク電流解析

机译:AlGaN / GaN HEMT的漏电流分析

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摘要

Traps in GaN layer of AlGaN/GaN HEMTs have been studied by using both experimental data and TCAD simulation. Two traps with activation energies of 0.15 and 0.5 eV are estimated from drain current versus drain voltage curves below pinch-off voltage at various temperatures. Furthermore, the drain leakage current is found to decrease as the trap density increases. From TCAD simulation, the decrease of the drain leakage current results from the increase of conduction band due to the traps with negative charges in GaN layer.%AlGaN/GaN HEMTのドレインリーク電流について,実測とTCADシミュレーションの両方から解析した.まず,ピンチオフ電圧以下のドレイン電流の温度依存性からGaN層中に活性化エネルギー0.15, 0.5eVの2種類のトラップがあり,電子は空間電荷制限機構により電導していることがわかった.次にこれらの実測値を参考にTCADシミュレーションを実施した.その結果,トラップが存在することで,ドレインリーク電流が抑制されることがわかった.これは,トラップが負に帯電することで,伝導帯エネルギーが上昇し,電子に対する障壁が増加するためである.
机译:通过使用实验数据和TCAD仿真研究了AlGaN / GaN HEMT的GaN层中的陷阱,根据在各种温度下低于夹断电压的漏极电流与漏极电压曲线估算了两个激活能分别为0.15和0.5 eV的陷阱。通过TCAD模拟,发现由于GaN层中带有负电荷的陷阱导致的导带增加,漏极漏电流的减小导致了漏极漏电流的减小。%AlGaN / GaN HEMT漏极泄漏电流通过实际测量和TCAD仿真进行了分析:首先,由于在夹断电压以下的漏极电流对温度的依赖性,GaN层中有两种陷阱能的激活能分别为0.15和0.5 eV。电子是空间的。发现电流是通过电荷限制机制传导的,接着,参照这些测量值进行了TCAD仿真,结果发现陷阱的存在抑制了漏极泄漏电流。这是因为陷阱上的负电荷增加了导带能量并增加了对电子的势垒。

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