...
机译:使用H_2和He等离子体气体在低温下远程进行硅膜的等离子体化学气相沉积
Semiconducting silicon; Plasma enhanced chemical vapor deposition; Film growth; Helium; Crystal microstructure; Optical properties; X ray photoelectron spectroscopy; Fourier transform infrared spectroscopy; Ultraviolet spectroscopy; Raman spectroscopy; X ray diffraction analysis; Transmission electron microscopy; Atomic force microscopy; Hydrogen plasma gases; Film growth kinetics; Crystallization mechanisms; Gas phase species; Film surface reaction; Optical band gap; Penning ionization process; Deposition rate; Argon plasma process;
机译:使用H_2和He等离子体气体在低温下远程进行硅膜的等离子体化学气相沉积
机译:等离子体增强化学气相沉积法从SiCl_4 / H_2气体中制备的纳米晶硅膜的低温(120℃)生长:微观结构表征
机译:等离子体气体对远程等离子体增强化学气相沉积法制备的低温沉积SiOCH薄膜绝缘性能的影响
机译:通过远程等离子体化学气相沉积进行低温聚-SI薄膜晶体管栅极 - 绝缘子膜沉积
机译:使用直流等离子体等离子体增强化学气相沉积法合成化学计量的氢化非晶碳化硅薄膜。
机译:用于进一步缩小超大型集成器件-Cu互连的等离子增强化学气相沉积SiCH膜的低k覆盖层的材料设计
机译:从Si2 H 6 - H 2-SIF4的低温下,远程等离子体增强硅膜的化学气相沉积