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机译:暴露于248nm光期间化学放大抗蚀剂除气的原位测量
chemically amplified resist; deprotection reaction; outgas during exposure; QCM; GC-MS; FT-IR;
机译:暴露于248nm光期间化学放大抗蚀剂除气的原位测量
机译:从EUV金属氧化物纳米粒子抗蚀剂在电子照射期间产生的原位测量
机译:EUV金属氧化物纳米粒子在电子辐照过程中产生的脱气的原位测量
机译:缩醛型聚合物中各种酸敏感性基团对248nm化学放大抗蚀剂轮廓的插入效应
机译:通过使用多时代光曝光测量叶绿素荧光测量的拟南芥拟南芥非平化淬火调节动力学的定量模型
机译:通过使用非化学放大的抗蚀剂和曝光后烘烤来制造具有改善的线边缘粗糙度的高分辨率掩模
机译:用于化学扩增抗蚀剂的脱保护反应的激活能量:使用原位FT-IR光谱的研究。