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机译:PECVD利用膜点载荷挠度表征富硅氮化物和低应力氮化物膜的机械特性
PECVD; microfabrication; silicon nitride; silicon-rich nitride; point load; membrane; deflection;
机译:PECVD利用膜点载荷挠度表征富硅氮化物和低应力氮化物膜的机械特性
机译:LPCVD氮化硅薄膜的断裂特性从长膜的载荷挠度出发
机译:快速热退火后溅射和等离子体增强化学沉积(PECVD)氮化硅膜的机械性能表征
机译:用于制造微结构的超低应力富硅氮化物膜
机译:外延氮化钛/氮化铌和钒(0.6)铌(0.4)氮化物(0.4)/氮化铌超晶格薄膜的成核,结构和力学性能
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:沉积条件对低温pECVD氮化硅薄膜力学性能的影响