机译:快速热退火后溅射和等离子体增强化学沉积(PECVD)氮化硅膜的机械性能表征
Fracture toughness; Nano-indentation; PECVD; Rapid thermal annealing; Silicon nitride; Sputtering;
机译:快速热退火后溅射和等离子体增强化学沉积(PECVD)氮化硅膜的机械性能表征
机译:快速热退火的PECVD氮化硅膜的纳米压痕断裂和疲劳特性
机译:快速热退火富硅氮化硅膜中PECVD生长的硅纳米级夹杂物的介电功能
机译:快速热退火法对PECVD氮化物膜力学性能的有限元模拟
机译:沉积后注入和退火对PECVD沉积氮化硅膜性能的影响
机译:射频等离子体增强化学气相沉积(RF PECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性能和沉积速率的影响
机译:射频增强等离子体化学气相沉积(RF pECVD)反应器中样品高度对氮化硅薄膜光学性质和沉积速率的影响