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齐雪莲; 任春生; 马腾才; 刘峰;
大连理工大学,三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024;
非平衡磁控溅射; 增强电离; Cu膜;
机译:非平衡磁控溅射沉积TiN / Ti多层膜的等离子体特性与腐蚀性能之间的关系
机译:ECR等离子体增强磁控溅射氮化碳膜沉积过程中的发射光谱研究。
机译:利用微波激发高密度等离子体的新型等离子体增强金属有机化学气相沉积法生长的氧化锌膜的表征
机译:传统磁控溅射沉积和等离子体增强磁控溅射沉积的Ti-Si-N纳米复合涂层的比较研究
机译:对二氧化硅膜的热化学气相沉积(CVD)和多晶硅膜的高密度等离子体CVD过程中颗粒形成和传输的研究。
机译:等离子体增强原子层沉积对不同化学计量SiOx膜的系统研究及其在SiOx / SiO2超晶格中的应用
机译:非平衡磁控溅射纳米级多层涂层TiAln / Vn和Tialcryn沉积在等离子体氮化钢上的摩擦学性质
机译:通过等离子体增强化学气相沉积沉积的无定形碳膜作为平面化层。
机译:等离子体增强化学气相沉积系统及等离子体增强化学气相沉积膜沉积方法
机译:高密度微波等离子体产生装置以及使用该装置的磁控溅射沉积系统
机译:高密度微波等离子体产生装置和使用该装置的磁控溅射沉积系统
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