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机译:低压电子束光刻抗蚀剂工艺:顶面成像和氢倍半硅氧烷氢双层
Top surface imaging; Bilayer lithography; Electron beam lithography; Hydrogen silsesquioxane; Base quenchers;
机译:低压电子束光刻抗蚀剂工艺:顶面成像和氢倍半硅氧烷氢双层
机译:超薄富勒烯薄膜可用于低压电子束光刻的高分辨率分子抗蚀剂
机译:双层抗蚀系统中类似蘑菇形的电子束光刻双步曝光技术
机译:低压电子束光刻的氢倍半氧烷双层抗蚀工艺
机译:聚合物抗蚀剂的电子束感应电导率效应和电子束光刻中的电荷感应电子束偏转模拟。
机译:使用原位自显影抗蚀剂进行带反馈的电子束光刻
机译:使用液相甲硅烷基化的I线抗蚀剂的顶表面成像光刻工艺