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机译:催化化学气相沉积与脉冲激光烧蚀相结合的掺Er a-Si:H新型沉积技术
Hydrogenated amorphous-silicon; Cvd method; Erbium; Luminescence; Quality; Films;
机译:催化化学气相沉积与脉冲激光烧蚀相结合的掺Er a-Si:H新型沉积技术
机译:使用光学显微镜检查热退火等离子体增强化学气相沉积和热线化学气相沉积a-Si:H膜中的晶体成核和生长
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机译:用压力脉冲化学气相沉积技术涂覆与Pyrocarbon的石墨化MCB的结构和电化学特性
机译:通过脉冲激光沉积和化学气相沉积合成新型材料:第一部分:氮化碳薄膜的能量沉积和稳定性。第二部分:一维材料和装置的催化生长。
机译:脉冲等离子体化学气相沉积法制备纳米多孔非晶碳化硼薄膜的摩擦学和热稳定性研究
机译:脉冲功率振幅对大功率脉冲等离子体增强化学气相沉积中等离子体性质和膜沉积的影响
机译:化学气相沉积和等离子体辅助化学气相沉积技术形成的碳 - 碳复合材料氧化保护系统。