机译:防止HDP-CVD沉积过程中等离子体引起的损坏
High-density plasma (HDP); Chemical vapor deposition (CVD); Plasma-induced damage; Inductively coupled plasma (ICP);
机译:防止HDP-CVD沉积过程中等离子体引起的损坏
机译:在BEOL半微米CMOS工艺中防止等离子体诱导的薄栅极氧化物损坏
机译:等离子体增强原子层沉积中等离子体诱导的损伤的原子尺度表征
机译:HDP-CVD处理中硅表面上的等离子体诱导的缺陷产生
机译:等离子体诱导的晶片充电会造成薄氧化物损坏
机译:非热血浆诱导的细胞凋亡受到ATR和PARP1介导的DNA损伤反应和昼夜节律的调节
机译:使等离子体诱导甲烷偶联中的碳沉积最小化与结构氢化催化剂
机译:用于太阳能电池应用的等离子体诱导Inp薄膜沉积