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机译:用于真空兼容光刻工艺的a-Si:H光刻胶的加工和表征
a-Si:H; dry etching; photolithography; dry processing; plasma-enhanced chemical-vapor deposition (PECVD); CdTe; HgCdTe;
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机译:在HgCdTe中制造器件结构的a-Si:H真空兼容光刻胶工艺
机译:新型阴性喷涂光致抗蚀剂,用于光刻处理高地形步骤
机译:光刻过程中光致抗蚀剂图案的塌陷研究
机译:半导体制造工厂的光刻工艺中挥发性有机化合物的暴露和副产物挥发性有机化合物的暴露可能性
机译:杜邦9015的特性,用于印刷线路板的水性可加工干膜光刻胶。专题报道
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