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机译:将Stoney公式扩展到薄膜/基板系统中的任意温度分布
Nonuniform film temperatures and stresses; Nonuniform substrate curvatures; Stress-curvature relations; Nonlocal effects; Interfacial shears;
机译:将Stoney公式扩展到薄膜/基板系统中的任意温度分布
机译:扩展Stoney公式用于具有梯度应力的MEMS膜-膜系统
机译:具有不均匀基底厚度的薄膜/基底系统的Stoney公式
机译:基质温度对有机蒸发系统生长镍酞菁薄膜光学性质和表面形态的影响
机译:使用新颖的荧光方法探索薄膜和超薄膜中玻璃化转变温度的分布以及相关的弛豫行为。
机译:ZnF2掺杂的ZnO靶在不同溅射衬底温度下沉积F掺杂的ZnO透明薄膜
机译:具有任意膜厚和失配应变分布的薄膜/基板系统。第一部分:从非局部曲率信息获得膜应力的分析
机译:将衬底曲率的stoney公式扩展为具有薄衬底或大变形的配置;应用物理快报