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机译:通过RF磁控溅射在IT-SOFC多孔阳极载体上沉积La _(0.9)Sr _(0.1)Ga _(0.8)Mg _(0.2)O _(3-δ)薄膜电解质的制备和表征
LSGM; RF magnetron sputtering; Solid oxide fuel cell; Thin film;
机译:通过RF磁控溅射在IT-SOFC多孔阳极载体上沉积La _(0.9)Sr _(0.1)Ga _(0.8)Mg _(0.2)O _(3-δ)薄膜电解质的制备和表征
机译:射频磁控溅射法生长衬底温度和La_(0.9)Sr_(0.1)Ga_(0.8)Mg_(0.2)O_(3-δ)电解质膜的生长
机译:Sofc多孔阴极上La_(0.9)sr_(0.1)ga_(0.8)mg_(0.2)o_(3-δ)薄膜的制备与表征
机译:射频磁控溅射沉积La_(0.9)Sr_(0.1)Ga_(0.8)Mg_(0.2)O_(3-δ)薄膜电解质的电化学表征
机译:射频反应磁控溅射在低温下沉积在硅上的压电氮化铝薄膜的声波器件特性
机译:半导体离子纳米复合La0.1Sr0.9MnO3-δ-Ce0.8Sm0.2O2-δ高性能低温SOFC的功能层
机译:双枪RF磁控溅射的Pb(Zr0.9Ti0.1)O3 / Pb(Zr0.1Ti0.9)O3多层薄膜的制备及电性能