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Simulation von Plasma-Beschichtungsprozessen: Ein neues Design-Werkzeug fur die Vakuum- und Plasmatechnik

机译:等离子涂层工艺的仿真:一种用于真空和等离子技术的新型设计工具

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摘要

Aufgrund der fortschreitenden Hochskalierung industrieller Plasma-Beschichtungsprozesse steigen die Anforderungen sowohl an Produktivitat als auch an Prazision kontinuierlich. Beide Anforderungen sind gegensatzlich, so wird z. B. eine Produktivitatssteigerung oft mittels Vergrosserung der Substratmasse erzielt, hierdurch wird i. d. R. die Homogenitat der Schichteigenschaften uber die Substratflache verschlechtert. Eine auf experimentellen Methoden fussende Weiterentwicklung von Beschichtungsquellen wird durch die zunehmende Komplexitat und Grosse der Beschichtungsanlagen erschwert. Aus diesem Grund wird in der Forschung und Entwicklung in der Beschichtungstechnologie in letzter Zeit zunehmend ein Schwerpunkt auf Simulationsverfahren gesetzt. Am Fraunhofer-Institut fur Schichtund Oberflachentechnik wurde eine Particle-in-Cell Monte-Carlo - Simulationsumgebung implementiert, um Transportphanomene und Gasentladungen im Niederdruckbereich detailliert beschreiben zu konnen. Bei der Entwicklung neuer Plasma-Beschichtungsquellen konnen mit diesem Simulationstool Vorhersagen und Optimierungen durchgefuhrt sowie allgemein das Verstandnis der Plasmaentladungs- Mechanismen vertieft werden.
机译:由于工业等离子涂层工艺的不断升级,对生产率和精度的要求都在不断提高。这两个要求是相反的。 B.通常通过增加衬底质量来实现生产率的提高。 d。通常,基材表面上的层性质的均匀性变差。通过增加涂层系统的复杂性和尺寸,使基于实验方法的涂层源的进一步开发变得更加困难。因此,涂层技术的研究和开发近来越来越集中于模拟方法。在弗劳恩霍夫层与表面技术研究所,实施了粒子内蒙特卡罗模拟环境,以便能够详细描述低压范围内的传输现象和气体排放。在开发新的等离子体涂层源时,可以使用此仿真工具进行预测和优化,并且通常可以加深对等离子体放电机理的了解。

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