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姆.SA; 李建华;
不详;
真空等离子; 高能工艺; 涂层材料;
机译:真空电弧分离等离子体沉积的Ti-Al-Si-N防护涂层的结构和力学性能
机译:一种使用耦合真空电弧和离子等离子体工艺真空沉积复合锡铜涂层的装置
机译:真空等离子体喷涂工艺通过真空等离子体喷涂工艺进行制备和特性,以保护C / C复合材料氧化
机译:在真空等离子喷涂(VPS),低压等离子喷涂(LPPS)和高速氧气燃料(HVOF)沉积的不同CoNiCrAlY键合涂层上进行CVD过铝化工艺的开发
机译:大气压等离子体CVD工艺的设计,该工艺使用介电势垒放电沉积氮化硅薄膜。
机译:具有稳健的Zn-O薄膜晶体管双层异质结构设计和低温制造工艺使用真空和溶液沉积层
机译:钼涂层沉积真空等离子体喷涂工艺的力学性能和微观结构
机译:真空中的高能沉积
机译:等离子体化学真空沉积装置,等离子体产生方法和等离子体化学真空沉积方法
机译:真空沉积腔室的等离子体刻蚀原位清洗工艺-激发气体分别进行等离子体放电激发,并使活化的蚀刻气体进入腔室
机译:通过反应性高能溅射工艺沉积层,方法是在基板上通过溅射工艺喷涂部分层,然后在基板上沉积层,其中通过脉冲模式操作的磁控管执行溅射工艺
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