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机译:反应磁控溅射在Si(100)和Si(111)衬底上生长AIN膜
reactive sputtering; silicon; aluminum nitride; stress; X-ray diffraction; NITRIDE THIN-FILMS; PULSED-LASER DEPOSITION; ALUMINUM NITRIDE; INTRINSIC STRESSES; BUFFER LAYER; ALN BUFFER; STRUCTURAL CHARACTERISTICS; EPITAXIAL-GROWTH; GAN FILMS; SAPPHIRE;
机译:反应磁控溅射在Si(100)和Si(111)衬底上生长AIN膜
机译:使用反应溅射磁控管沉积在Si衬底上的AIN薄膜的深度轮廓和形态表征
机译:反应磁控溅射在Si衬底上沉积的AIN薄膜的电和热电性质
机译:通过直流反应磁控溅射和高功率脉冲磁控溅射(Hipims),织地织地织地造成的ALN薄膜的生长沉积在Si(100)上沉积在Si(100)上
机译:氮化铬和氮化铬铝外延膜,用于通过AC反应磁控溅射法生长α-氧化铝。
机译:反应磁控溅射在MgO(100)上异质外延生长TiN膜
机译:反应磁控溅射法将立方Sc1-xAlxN固溶薄膜外延溅射到ScN(111)上